基本型等离子清洗机是一种利用低温等离子体技术对材料表面进行清洁、活化和改性的精密设备,广泛应用于微电子、半导体、光学、生物医疗和新材料研发等领域。其通过在真空腔体内产生高能等离子体,有效去除表面有机污染物、微颗粒及氧化层,显著提升材料的附着力、润湿性和结合强度。
工作原理
基本型等离子清洗机主要由真空腔体、射频(RF)电源、气体控制系统和抽真空系统组成。工作时,将待处理样品放入腔体,抽至一定真空度(通常为10–100 Pa),然后通入工艺气体(如氧气、氩气、氮气或空气)。在射频电场作用下,气体分子被电离,形成包含自由电子、离子、自由基和激发态分子的等离子体。这些高能粒子与材料表面发生物理轰击(溅射)和化学反应(氧化、分解),将有机物分解为挥发性小分子(如H2O、CO2),从而实现高效清洁。

主要功能
表面清洁:去除油脂、脱模剂、助焊剂等有机残留,提高表面洁净度。
表面活化:在材料表面引入含氧或含氮极性基团(如-OH、-COOH),增强表面能,改善粘接、印刷或涂覆性能。
表面刻蚀:通过物理溅射作用轻微刻蚀表面,增加微观粗糙度,提升界面结合力。
典型应用
电子行业:PCB板焊前处理,提高焊点可靠性;芯片封装前清洗。
医疗领域:医疗器械表面改性,增强细胞附着,提升生物相容性。
光学器件:镜片、光纤端面清洁,确保镀膜质量。
科研实验:材料表面预处理,用于粘接、喷涂、3D打印等工艺。